雙靶磁控濺射儀是一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。本公司生產(chǎn)的DC系列的數(shù)字型熱式氣體流量控制器在該設(shè)備中使用，產(chǎn)品采用全數(shù)字架構(gòu)，新型的傳感制作工藝，通訊方式兼容：0-5V、4-20mA、RS485通訊模式，一鍵切換通訊信號，操作簡單方便。

     雙室磁控濺射沉積系統(tǒng)是帶有進樣室的高真空多功能 磁控濺射鍍膜設(shè)備。它可用于在高真空背景下，充入高純氬氣，采用磁 控濺射方式制備各種金屬膜、介質(zhì)膜、半導體膜，而且又可以較好地濺 射鐵磁材料（Fe、Co、Ni），制備磁性薄膜。在鍍膜工藝條件下，采用 微機控制樣品轉(zhuǎn)盤和靶擋板，既可以制備單層膜，又可以制備各種多層 膜，為新材料和薄膜科學研究領(lǐng)域提供了十分理想的研制手段。

     DC系列的數(shù)字型熱式氣體流量控制器正常工作壓力范圍可達：10MPa（100Bar），產(chǎn)品精度優(yōu)于±1%F.S，響應速度優(yōu)于2秒且流量值穩(wěn)定速度也是極快的。閥體過流材質(zhì)均選用品質(zhì)良好的316L不銹鋼。供電方式為+15V—24V的寬頻供電，能滿足市面上絕大多數(shù)用戶的使用要求和使用習慣。DB9針的電氣接頭，也方便了用戶在使用時的拆裝。具有響應速度快、準確度高、穩(wěn)定的流量控制、寬壓力范圍、優(yōu)良的耐腐蝕性和出色的線性度等優(yōu)點，能監(jiān)測和控制各種惰性氣體及部分具有腐蝕性的氣體。